sav_:и как это определяется? есть стандарт, где сказано, что 10нм, это столько то транзисторов в один слой на единицу площади?
Сперва обозначало техническое разрешение литографического оборудования, затем
стало обозначать длину затвора транзистора, полушаг линий металла (half pitch) и ширину линий металла.
Позже реальные размеры затворов транзисторов логических схем стали несколько меньше, чем обозначено в названии техпроцессов 350 нм — 45 нм, благодаря внедрению технологий resist-pattern-thinning и resist ashing.
С этих пор коммерческие названия техпроцессов перестали соответствовать длине затвора.
Для обозначения более тонких техпроцессов разные технологические альянсы могут
следовать различным рекомендациям (Foundry/IDM). В частности, TSMC использует обозначения 40 нм, 28 нм и 20 нм для техпроцессов, сходных по плотности с процессами Intel 45 нм, 32 нм и 22 нм соответственно.
К слову сейчас каждый меряет как ему вздумается, тем самым внося путаницу, но в наше время только ленивый или очень глупый человек не сможет найти информацию о том с применение каких технологических норм на самом деле производится тот или иной микрочип и т. д.
P.S. При желании это нетрудно и самому узнать, а не требовать её пояснения у других, ведь информация находится в свободном доступе.